サムスン電子「高感度フォトレジスト開発で技術優位を確保」言及

先月30日に開かれたサムスン電子の第二四半期実績発表後に行われたカンファレンスコールにおいて、同社のハン・ジンマン メモリ事業部マーケティングチーム専務は、EUV(極端紫外線)露光装置を活用したDRAM生産について言及するなか、「高感度・高性能フォトレジストを開発し、技術優位性を確保したい」と言及した。
 
(参考記事:「東京応化工業がEUVフォトレジストを韓国で生産…韓国国営ニュース報じる」)
(参考記事:「米デュポンが韓国にEUVフォトレジスト工場を建設か」)
(参考記事:「サムスンがEUV適用DRAM生産開始。モジュール100万個を出荷」)
 
韓国経済新聞(1日)によると、同紙がサムスン電子に問い合わせた結果、「独自で開発するという話ではなかった。ただ、『高性能・高感度』EUV用フォトレジストを工程に投入できるように協力会社と緊密に協議するという意味」だと説明したという。

同紙は、「長期的に日本メーカーへの依存度を低くしようとする意志を表した」との見方を示した上で、サムスン電子が投資したと伝えられるアメリカのフォトレジスト専門スタートアップ「Inpria」について言及した。InpriaはEUV用「無機フォトレジスト」開発技術を保有しているとされる。

また、現在、EUV用フォトレジストを開発中と伝えられる韓国のドンジンセミケムに対してサムスンが追加投資する可能性についても指摘した。

EUV装置を活用する露光工程に使われるフォトレジストは、現在のところ、日本の東京応化工業、JSR、信越など日本企業が独占している。昨年7月の日本による輸出規制(管理強化)以降、韓国政府の誘致もあり、グローバル化学企業であるアメリカのデュポンが韓国現地にEUV用フォトレジストの生産工場を建てることで合意した。また、先月には、東京応化工業の韓国法人がEUV用フォトレジストの量産に入ると韓国メディアが報じている。

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