韓国ドンジン社、EUVフォトレジスト関連人材を募集 ASML元幹部も昨年スカウト

韓国のドンジンセミケム(DONGJIN SEMICHEM)が次世代素材である「極紫外線フォトレジスト(EUV PR)の開発に拍車をかけていることが分かった。同社は、関連研究を進めする人材を補強する一方、EUV PRを開発するため様々なテストを実施していると伝えられた。
 
(参考記事:「デュポンの韓国人重役、EUVフォトレジスト工場誘致などで韓国政府から表彰」)
 
韓国のetnewsは25日、業界関係者への取材をもとに、「ドンジンセミケムは今年第1四半期(1~3月)のキャリア採用情報を通じて《EUV PR用PAG合成》の開発を担当する修士卒以上の人材採用募集を出した」とし、「その人材は、今後同社の板橋研究開発(R&D)センターで勤務すると考えられる」と報じた。

EUV PRは半導体超微細工程で必要な液体素材だ。 13.5ナノ(m)の波長を活用した露光工程を行う時に使われる。丸いウェハ上に均一に塗布された後、EUV光に反応して回路の形を残す役割をする

PAGは、「光酸発生剤」と呼ばれる化学物として化学増幅(CAR)PRの重要な構成物質であることから、「その人材を増やし、EUV PR開発研究能力を強化するものと見られる」とetnewsは伝えている。

ドンジンセミケムは、現在フォトレジスト事業で3D NAND型フラッシュの製造に活用されるフッ化クリプトン(KrF)PRを主に生産している。

同社は、次世代の主力事業としてEUV PRに焦点を当て研究開発に拍車をかけている。 2019年に国内の半導体業界に衝撃を与えた日本のEUVフォトレジストの輸出規制以降、国内工場に取り入れたフッ化アルゴン(ArF)液浸露光装置等の社内インフラと、ベルギーの半導体研究ハブであるIMECのEUV露光装置などを活用してEUV PR国産化に挑戦している。EUV PR市場は、JSR、信越化学、TOKなど日本企業が寡占している。

ドンジンセミケムは、次世代事業継続のために、昨年、キム・ヨンソン前ASMLコリア社長を副会長として招き入れた。
 
(参考記事:「韓国企業が「日本が独占する極薄銅箔の国産化に成功」発表…サムスンの半導体に適用へ」)
(参考記事:「韓国ポスコ、脱硫設備素材の国産化に成功」)
(参考記事:「韓国が対日依存度の高いマグネシウム系セラミック原料の国産化を推進」)
(参考記事:「[特集]韓国の半導体素材や部品などの国産化政策…1年半の経過」)

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