2020.01.02 サムスン、半導体3ナノ工程技術を開発か 企業 半導体 Tweet Share Hatena LINE この記事のタイトルとURLをコピーする サムスン電子の華成工場にある半導体研究所は2日イ・ジェヨン副会長が訪問した席で、世界に先駆けて開発した3ナノプロセス技術を実証した。韓国各紙が報じている。 イ副会長はこの日、サムスン電子が世界に先駆けて開発したという3ナノプロセス技術内容を視察したという。 3ナノ工程は、次世代技術であるゲートオールアラウンド(GAA:Gate-All-Around)を適用したという。 5ナノ製品に比べ、チップ面積を約35%以上削減することができるとのこと。 Tweet Share Hatena LINE この記事のタイトルとURLをコピーする ギャラクシー後継機種はS11ではなくS20か? 前の記事 サムスンが2020年型QLED全製品の8K認証取得 次の記事