エス・アンド・テック社がEUV用素材のR&D進める

半導体

エス・アンド・テック社がEUV用素材のR&D進める

エス・アンド・テック(S&S TECH.)社が極紫外線(EUV)露光工程用の素材部品の開発を進めているという。

韓国メディア・ジイレック紙によると、エス・アンド・テック社は、EUV用ブランクマスクの研究開発(R&D)を行っていると伝えた。まだ具体的な量産時期を検討する時期には入ってないが、EUV関連部素材のトータルソリューション企業へと飛躍することを目標にそえ、R&Dへのリソースを増加させているとのこと。

ブランクマスクは、半導体フォトマスクの原材料である。既存のフッ化アルゴン(ArF)ブランクマスクは、石英ガラス(クォーツ)のクロム合金をコーティングして作った。 EUVブランクマスクは石英ガラスではなく熱膨張率が100分の1の水準に低いセラミック材料を使用する。セラミック上にモリブデン(Mo)とシリコン(Si)をナノメートルレベルで薄く、多層で載せ、タンタル(Ta)ベースの合金で再びコーティングして完成される。現在、日本企業であるHOYAと旭硝子がEUV用ブランクマスクを生産供給している。

エス・アンド・テック社はEUV用ペルリクル(Pellicle)の事業にも取り組んでいるようだ。ペルリクルはフォトマスクの汚染を防止する保護膜を意味する。ジイレック紙によると、同社の関係者は、「今年のASMLの四半期業績発表当時、私たちは、公式のペルリクルサプライヤーとして紹介されたことがある」とし、「しかし、エンドユーザーとの供給についてはまだ協議していない」と述べたという。

エス・アンド・テックの経常R&D費用は2017年26億ウォン(約2億円)、2018年31億ウォン(約3億円)、2019年43億ウォン(4億円)と毎年増えている。同社の従業員206人(昨年末基準)のうち、40人が研究者であると、同紙は伝えている。

ソウル経済紙は28日、エス・アンド・テック社の株価は過去1か月間で49.62%上昇していると伝えている。

 
 


 
 
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