サムスン総帥がオランダASML訪問、EUV装置やAI半導体などで協議

半導体

サムスン総帥がオランダASML訪問、EUV装置やAI半導体などで協議

サムスングループの事実上の総帥であるイ・ジェヨン=サムスン電子副会長がオランダのASML社を訪れた。ASMLは半導体生産装置の最先端企業であり、サムスンに1台約200億円といわれるEUV装置を供給している。

イ副会長は13日(現地時間)、オランダのフェルトホーフェンにあるASML本社を訪れ、ピーター・ウェニンク(Peter Wennink)CEO、マルティン・ファン・デン・ブリンク(Martin van den Brink)CTOなどに会い、次世代半導体技術の開発に向けた協力強化方策について議論した。サムスン電子が14日、明らかにした。
 
(参考記事:「サムスン総帥がオランダ出張…EUV露光機関連か?」)
 
イ副会長とウェニンクCEOは▲7ナノ以下の最先端半導体の生産に必須なEUV(Extreme Ultra Violet)装置の供給計画と運営技術の高度化方策▲AIなど未来半導体のための次世代製造技術の開発協力▲コロナ禍の長期化による市場の見通しとアフターコロナの対応に向けた未来半導体技術戦略などに対する意見を交わした。

イ副会長はこの日、ASMLの半導体製造装置の製造工場も訪問しEUV装置の生産状況を直接確認した。

イ・ジェヨン副会長は、2016年11月にもサムスン電子を訪れたウェニンクCEOなどASMLの経営陣に会い次世代半導体の微細プロセス技術に関する協力方策を議論し、2019年2月にはフランスのパリで面会し半導体事業について意見を交わした。
 

(画像:ASMLのEUV装置=ASMLウェブサイト)

 
今回のミーティングにはサムスン電子DS部門長のキム・ギナム副会長が同席した。

サムスン電子は次世代半導体実現に向けEUV技術が必要と判断し、2000年代からASMLと超微細半導体プロセス技術と装置開発のために協力しており、2012年にはASMLに対する戦略的持分投資によりパートナーシップを強化した。

EUV露光技術は、極紫外線の光源を使用してウェーハに半導体回路を刻む技術で、従来の技術より精密な回路の実現が可能で人工知能(AI)・5世代(5G)移動通信・自動運転などに必要な最先端高性能・低電力・超小型半導体を作るのに必須な技術だ。

サムスン電子とASMLは、EUV関連の技術的な難題解決に向け初期から▲EUVに最適化された先端半導体素材の開発▲装置の生産性向上▲性能改善など様々な分野で協力を続けている。

サムスン電子は最近、システム半導体に続き最先端メモリー半導体分野にまでEUVの活用範囲を拡大しており、特にファウンドリー事業が急速に成長し両社間の協力関係も拡大している。
 
(参考記事:「ASMLのQ2実績、利益急増…EUV装置など販売好調」)
(参考記事:「EUV露光装置好調の蘭ASML、最大購入社はサムスン」)
(参考記事:「[特集]米国による中国SMICへの制裁検討…各国半導体装置企業への影響は?」)
 
(アイキャッチ画像:ASML首脳と共にEUV装置を視察するイ・ジェヨン=サムスン電子副会長/サムスン電子提供)


 
 
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