SKハイニクス、EUV露光機導入に4500億円投入…取締役会で議決

半導体

SKハイニクス、EUV露光機導入に4500億円投入…取締役会で議決

SKハイニクスは24日、取締役会を開き、EUV(極紫外線)スキャナー機械装置の購入のため、2025年12月までに4兆7549億ウォン(約4552億円)を投資することを議決したと公示した。
 
(参考記事:「SKハイニクスがEUVライン備えた新工場を竣工…3300億円投じた巨大施設」)
 
取引相手は、世界唯一のEUV露光機メーカー、オランダのASMLだ。

SKハイニクス側は「次世代工程量産に対応するためのEUV装備確保次元」とし、「計5年にわたりEUV装備を取得する予定で、個別装備を取得する度に分割して費用を支払う」と説明した。

EUVは半導体の原材料であるシリコンウェハーに回路を描き入れる露光工程に活用される。 既存のフッ化アルコン(ArF)光源に比べて波長の長さが14分の1未満と短い。 それだけ回路をより薄く細密に描くことができ、半導体微細化工程の中核と呼ばれる。

現在、EUV露光技術を活用して半導体を製造するメーカーはサムスン電子とTSMCだ。 これらの会社はファウンドリー(半導体受託生産)製造工程にEUV装備を使っている。 サムスン電子は10ナノ4世代DRAMにもEUV工程を適用し量産に成功した。

SKハイニクスは、フッ化アルゴンを活用して回路を描いたメモリー半導体を主要生産してきたが、最近になってEUV工程を導入している。 現在、EUVを適用した製造工程の開発が大詰めを迎えているという。
 
(参考記事:「SKハイニクス、社員の間でボーナス額に不満高まる…サムスンの半分以下」)
(参考記事:「「SKハイニクスの評価はサムスン電子より相対的に高い」韓国証券社分析」)
(参考記事:「サムスン総帥がファウンドリ設備搬入式に出席…ASML幹部など協力社も傘下」)
 
(写真:SKハイニクス提供)


 
 
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