SKシルトロン社がDGISTとMOU、半導体ウエハ製造におけるスパコン技術で

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SKシルトロン社がDGISTとMOU、半導体ウエハ製造におけるスパコン技術で

大邱慶北科学技術院(DGIST)は、SKシルトロン(SK Siltron Co., Ltd.)と半導体ウェハ(Wafer)を開発する技術サポート業務協約(MOU)を締結したと23日明らかにした。ウェハはシリコン素材の基板であり半導体製造における重要な素材である。

協約に基づいてDGISTは、スーパーコンピューティング技術をSKシルトロンに提供する。 SKシルトロンは現在、ウェハ製作時に必要な「単結晶成長技術」を研究中である。この技術は、韓国産業通商資源部が指定した国の核心技術であり、関連の内容を外部に公開していない。

DGISTのスーパーコンピューティング技術は、このウェハ製造時に必要な時間とコストを削減するために使用される。ビッグデータを使用したコンピュータシミュレーションにより最適な条件を探し、試行錯誤を減らすというのがDIGISTの説明だ。

ジャン・イクスDGISTスーパーコンピューティング・ビッグデータセンターセンター長は「今回の協約は、日本の輸出規制による部品、素材の国産化のための技術サポートの意味を持つ」とし、「今後の部品素材の国産化のため様々なスーパーコンピューティング技術を支援する」と述べた。

SKシルトロン製造技術総括であるチェ・グンミン氏は「大規模な並列計算技術におけるDGISTのサポートを受けることにより、当社のコアコンピタンスの一つである大口径シリコン単結晶成長の数値解析基盤技術競争力における革新をさらに加速させることができる」と述べた。

SKシルトロンは、半導体の基礎材料であるウェハの製造企業であり、1983年に設立され、慶北亀尾(クミ)市第3工業団地に位置している。 2018年基準の年間売上は1兆3,462億ウォン(約1265憶円)であり、ウェハ製造の5大企業の一角として、全世界のウェハ販売量の約10%を占めている。

(写真:MOU文書を交わすグク・ヤンDGIST総長(右)とSKシルトロンのチェ・グンミン製造技術統括=DGIST提供)


 
 
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