SKマテリアルズがフォトレジスト事業を買収

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SKマテリアルズがフォトレジスト事業を買収

半導体製造工程で使われる特殊ガスを生産するSKマテリアルズが、韓国の錦湖(クムホ)石油化学のフォトレジスト(感光液)事業を買収するという。韓国経済新聞が7日報じた。フォトレジストは、半導体ディスク(ウェハ)上に回路を印刷する際に使われる重要素材だ。

日本が昨年7月から韓国への輸出管理を強化(輸出規制)する半導体コア素材3種(フッ化水素・フォトレジスト・ポリイミド)のうちの一つだ。

同紙によると、SKマテリアルズは7日に理事会を開き、錦湖石油化学の電子材料・カーボンナノチューブ(CNT)部門内にあるフォトレジスト事業の買収を議決したという。韓国の忠南牙山にある工場内の設備と人材のみを取得する条件であるとのこと。買収金額は~500億ウォン(約46億円)であるという。

SKマテリアルズは、日本の輸出規制が開始された直後から、半導体素材の国産化が必要であると判断し、錦湖石油化学側に売却を提案していたという。

ただし、錦湖石油化学のフッ化アルゴン(ArF)フォトレジストは、まだ極紫外線(EUV)のような微細プロセスに適したレベルには及ばないという。

韓国内では、サムスン電子とSKハイニクスなどの次世代主力半導体の10㎚(ナノメートル・1㎚= 10億分の1m)以下の超微細工程用フォトレジストについては、まだ生産技術を有していないとされる。 SKマテリアルズは、買収後に別途子会社を設立してフォトレジスト技術の開発に乗り出す計画であるという。同紙によると、業界関係者は、「特殊ガス分野のノウハウが豊富なSKマテリアルズが研究開発(R&D)に乗り出せば1〜2年以内にEUV用フォトレジストを開発すると思われる」と述べたとのこと。

SKマテリアルズは、昨年末、高純度フッ化水素の開発にも成功した。高純度フッ化水素は、半導体ウェハを加工し、その上の不純物を除去するために使われる。国内半導体メーカーは、必要な量の95%以上を森田化学、ステラケミファなど日本企業に依存している。 SKマテリアルズの関係者は、「技術開発は、終わり量産に先立ち、品質検証を進めている段階」と述べたとされる。

SKグループ持株会社であるSK(株)は、2015年11月にOCIグループが保有するOCIマテリアルズの株式49.1%を4816億ウォン(約446億円)で買収した。チェ・テウォンSKグループ会長の経営復帰(2015年8月)以来の買収合併(M&A)であった。 2011年に現SKハイニクスを買収し半導体事業に参入した際、チェ会長は素材事業の競争力が半導体製造の競争力を左右するとし、OCIマテリアルズの買収を決定したといわれる。

SKマテリアルズは、SKグループに買収された後、すぐに成長軌道に入った。 2016年にSKCが保有していたSKCエアガスの持分80%を取得。日本のトリケミカルと3次元(3D)のNAND型フラッシュ素材である前駆体の生産会社「SKトリケミカル(SKマテリアルズ株式65%)」を設立した。 2017年には、日本昭和電工との間で半導体エッチング工程に使用されるエッチングガスの製造合弁会社「SK昭和電工(SKマテリアルズの株式51%)」を発足させた。昨年は、半導体用炭酸ガスメーカーであるハンユケミカルを買収した。


 
 
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