サムスンやTSMCなど、米フォトレジト開発社に追加投資

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サムスンやTSMCなど、米フォトレジト開発社に追加投資

サムスン電子が半導体EUV(極紫外線)用フォトレジスト(感光液)の開発に特化スタートアップである米国のインプリア社(Inpria Corporation)に追加投資したことが分かった。

20日(現地時間)、インプリア社は、サムスン電子の投資子会社であるサムスンベンチャー投資などから3100万ドル規模の投資を受けたと発表した。韓国各紙も報じた。サムスン電子がインプリア社に投資したのは2014年に470万ドル、2017年に2350万ドル規模の投資を行って以来、三度目となる。

今回の投資には、日本のJSRをはじめ、韓国のSKハイニックス、台湾TSMCなども参加した。

インプリア社は、金属酸化物を活用して感光液を作成し、既存の日本企業が生産する方式よりも光を受け入れる吸収率を4倍以上に高めたとされる。 韓国チョソンビズによると、JSRの今回の投資は、潜在的な競争相手であるインプリア社に対する「先制的な投資として解釈される」とのこと。同紙によると、サムスン電子にとっては、インプリア社を通じてJSRへの依存度を減らし供給先の多様化に乗り出すことができると伝えた。

インプリア社のアンドリュー・グレンビル最高経営責任者(CEO)は「今回投資した企業から分かるように、インプリア社の半導体産業における戦略的な重要性を見ることができる」とし「画期的なEUVフォトレジストをグローバルパートナーに供給することができることを期待する」と述べた。

インプリア社は、2007年に米国オレゴン州立大学化学研究所から分社設立された会社である。2014年、サムスンベンチャー投資は、米国インテル、アプライドマテリアルズなど共にインプリア社に投資した。サムスンは2017年にも追加投資を行った。

韓国メディア・ジイレックの昨年報道によると、インプリア社の露光、現像、エッチング後の欠陥(Defect)の指標は既存の日本企業の有機(organic)PR製品に比べて10分の1水準まで低くできるとされており、サムスン電子の5ナノファウンドリーロジックプロセスの一部に適用される可能性が高いという。

(写真:インプリア社のWebページ)


 
 
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