SKCが半導体ブランクマスクを年内量産へ

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SKCが半導体ブランクマスクを年内量産へ

韓国のSKC社が、対日依存度が高かった半導体製造用のブランクマスクの国産化に乗り出した。26日、同社は、忠清南道にある天安(チョナン)工場でハイエンドブランクマスクの顧客認証用の試作品を製造したと明らかにした。テストを終えて、年内商品化を目標にしているという。韓国各紙も報じた。
SKCは430億ウォン(約41億円)を投資し、昨年4月、同工場の建設に入っていた。同年12月に完成し量産準備を続けてきた。 SKCは天安工場内の半導体材料のクラスターを構築する計画であるとみられている。

(写真:天安にあるSKCのブランクマスク用工場=同社提供)
ブランクマスクは、半導体露光工程で使用されるフォトマスクの原材料である。ブランクマスクは石英(クォーツ)の上に金属膜と感光膜を塗布して作成し、ここに回路パターンを現像化するとフォトマスクとなる。露光工程は、シリコンウエハにフォトマスクを上げ、光を発する回路を刻むプロセスである。
ブランクマスク市場は成長基調だ。微細化に伴うマスクの使用量が増加したためだ。 SKC独自の調査によると、2018年の8000億ウォン(約714億円)から2025年の1兆3000億ウォン(約1160億円)に拡大する見通しだという。同見通しが正確であれば、毎年7%成長する見込みだ。
現在、同市場を先導するのは日本のメーカーである。HOYA、信越などが90%以上を占めている。特に極紫外線(EUV)向けはHOYAが独占している。 EUV工程を導入したサムスン電子、TSMCなどもHOYAのマスクを利用しているという。今後EUVの利用率が高くなることが予想されることから、SOCは、同製品の国産化だけでなく、代替業者としてもポジションも志向しているとみられる。
SKC関係者は「天安に設けたSKC半導体材料のクラスターを中心に半導体事業を高度化し、国産化率を向上させるだろう」と述べた。
一方、SKグループは、半導体垂直系列化を進めている。 SKCをはじめSKシルトロン、SKのマテリアルズも半導体材料を供給している。


 
 
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